拓荆科技什么时候上市

拓荆科技：本次限售股上市流通日期为2023年4月20日

拓荆科技是一家半导体专用设备领先企业，于2022年4月20日在上海证券交易所科创板上市。该公司在研发、生产、销售和技术服务方面具有较强实力，主要产品包括等离子刻蚀设备、离子注入设备和薄膜沉积设备等。拓荆科技一直以来都以自主创新为主导，致力于推动半导体产业的发展。

1. 招股说明书显示公司发行总股本不超过4000万股

根据公司招股说明书显示，拓荆科技发行总股本不超过4000万股，其中公开发行股份不超过2000万股。发行价格待定。

2. 拓荆科技于2022年4月20日在科创板上市

2022年4月20日，拓荆科技成功登陆上海证券交易所科创板，正式上市。作为高端半导体专用设备领先企业，拓荆科技将以此为契机，开启新的发展征程。

3. 4110.99万股限售股将于4月20日解禁上市

拓荆科技有4110.99万股限售股份将于2022年4月20日解禁上市，这些限售股份占公司总股本的32.5%。解禁后，这部分股份将可以自由流通，并有可能对公司股价产生一定影响。

4. 公司股价表现总体呈持续攀升趋势

拓荆科技自上市以来，股价总体呈持续攀升趋势。经过近一年的交易，股价一直稳步上升，仅在2022年10月10日和11日两天出现较大幅度调整。

5. 拓荆科技是一家***技术企业，拥有多个子公司

拓荆科技成立于2010年4月，是一家由***认定的技术企业。公司在北京、上海、海宁、沈阳以及***设有子公司，形成了较完善的销售和服务网络。

6. 主要产品包括等离子刻蚀设备和薄膜沉积设备等

拓荆科技的主要产品包括等离子刻蚀设备、离子注入设备和薄膜沉积设备等。这些设备在半导体制造过程中起着重要作用，能够提高芯片的性能和制造效率。

拓荆科技已成功登陆上海证券交易所科创板，将于2022年4月20日正式上市。公司发行总股本为4000万股，其中2000万股公开发行。约4110.99万股限售股份将于同日解禁上市。拓荆科技的股价表现总体呈持续攀升趋势，并且作为***技术企业，拓荆科技在半导体专用设备领域有着较强的实力和多个子公司的支持。公司主要产品是等离子刻蚀设备、离子注入设备和薄膜沉积设备等，为半导体制造行业提供重要技术装备。